Bedrijf Huawei patenteerde een van de belangrijke componenten die worden gebruikt in EUV-lithografiesystemen (extreem-ultraviolette lithografie), die nodig zijn voor het creëren van hoogwaardige processors op een technologisch proces tot 10 nm. Het lost het probleem op van interferentiepatronen veroorzaakt door ultraviolet licht, die anders de plaat ongelijk zouden maken.
Het bedrijf bevindt zich in de laatste fase van de productie van microschakelingen Huawei loste het probleem op dat werd veroorzaakt door kleine golflengten van extreem ultraviolet licht. Het patent van het bedrijf beschrijft een reeks spiegels die een lichtstraal splitsen in verschillende subbundels die botsen met hun eigen microscopische spiegels.
Momenteel worden EUV-lithografiesystemen exclusief geproduceerd door het Nederlandse bedrijf ASML. Ze zijn gebaseerd op dezelfde principes als oudere vormen van lithografie, maar gebruiken licht met een golflengte van ongeveer 13,5 nm, wat bijna röntgenstraling is. ASML genereert ultraviolet licht uit snel bewegende druppeltjes gesmolten tin met een diameter van ongeveer 25 micron.
"Tijdens de val," legt ASML uit, "vallen druppeltjes eerst onder een laserpuls met lage intensiteit, waardoor ze plat worden tot een pannenkoek. Een krachtigere laserpuls verdampt vervolgens de afgeplatte druppel, waardoor een plasma ontstaat dat ultraviolet licht uitzendt. Om genoeg licht te produceren om microchips te maken, wordt dit proces 50 keer per seconde herhaald.
Het kostte ASML meer dan € 6 miljard en 17 jaar om de eerste partij EUV-lithografiemachines te ontwikkelen die verkocht konden worden. Maar de Amerikaanse regering druk uitgeoefend op de Nederlandse overheid, zodat het bedrijf de noviteit niet naar China zou exporteren en het land zich zou beperken tot de oudere DUV-technologie (diep ultraviolet). Dus momenteel gebruiken slechts vijf bedrijven ASML EUV-lithografiesystemen of hebben plannen aangekondigd om ze te gebruiken: Intel en Micron in de VS, Samsung en SK Hynix in Zuid-Korea en TSMC in Taiwan.
Chinese bedrijven zoals Huawei, konden voorheen hun ontwerpen naar fabrieken zoals TSMC sturen om te worden vervaardigd met behulp van EUV-lithografie. Maar sinds de VS geïntroduceerd sancties tegen China wordt het bijna onmogelijk. Echter Huawei heeft nog steeds toegang nodig tot geavanceerde knooppunten die EUV-lithografie gebruiken om processors te blijven verbeteren. Dus nu streeft het bedrijf ernaar zijn eigen EUV-systemen te bouwen en krijgt het voldoende kapitaal en steun van de overheid. Maar het heeft nog veel tijd nodig.
U kunt Oekraïne helpen vechten tegen de Russische indringers. De beste manier om dit te doen is door geld te doneren aan de strijdkrachten van Oekraïne via Red het leven of via de officiële pagina NBU.
Lees ook: